О разработке российского рентгеновского EUV-литографа
Меню
EN

Институт физики микроструктур РАН

- филиал Федерального государственного бюджетного научного учреждения "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова Российской академии наук" (ИФМ РАН)

EN

Институт физики микроструктур РАН

- филиал Федерального государственного бюджетного научного учреждения "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова Российской академии наук" (ИФМ РАН)

О разработке российского рентгеновского EUV-литографа

О разработке российского рентгеновского EUV-литографа

О разработке российского рентгеновского EUV-литографа 21.03.2023 В Национальном центре физики и математики (НЦФМ,г.Саров) состоялся научный семинар, посвященный EUV-литографии и перспективам создания отечественного EUV-литографа для микроэлектроники. Заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур РАН Н.И. Чхало рассказал о существующих в России заделах развития данного направления, промежуточных результатах проводимых НИОКР и планах дальнейшего развития работ.
Полная версия статьи и ссылка на научный семинар
https://www.atomic-energy.ru/news/2023/03/15/133578

Возврат к списку