Отдел многослойной рентгеновской оптики, 130
Меню
EN

Институт физики микроструктур РАН

- филиал Федерального государственного бюджетного научного учреждения "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова Российской академии наук" (ИФМ РАН)

EN

Институт физики микроструктур РАН

- филиал Федерального государственного бюджетного научного учреждения "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова Российской академии наук" (ИФМ РАН)

Отдел многослойной рентгеновской оптики (130)

Отдел многослойной рентгеновской оптики, 130

Революционное значение для рентгеновской оптики имеет создание в начале 80-х годов 20 века практически одновременно в США и в СССР технологии изготовления многослойных рентгеновских зеркал, представляющих собой, в общем случае, многослойные системы тонких пленок различных материалов, нанесенных на подложки с различной формой поверхности. За цикл работ в области многослойной рентгеновской оптики в 1991 году была присуждена Госпремия СССР. За последующие почти 20 лет область применения многослойной оптики многократно расширилась и большинство методов традиционной оптики (коллимация, фокусировка, построение изображений, поляризация излучения) стали доступными и для спектральной области экстремального ультрафиолетового и рентгеновского излучения. Т. е. появились возможности управления пространственными, угловыми, поляризационными характеристиками пучков рентгеновского излучения, получать изображение в рентгеновском диапазоне с дифракционным пространственным разрешением. По сути, мы стоим на пороге нового технологического скачка, связанного с освоением коротковолнового диапазона длин волн. И, хотя ряд проблем на этом пути еще предстоит решить, этот диапазон интенсивно осваивается. Во многом современное состояние дел в области многослойной оптики связано с работами коллектива исследователей из ИФМ РАН, одного из мировых лидеров в области физики и технологии изготовления многослойных металлических наноструктур.



Структура

Заведующий отделом

Чхало Николай Иванович
Заведующий лабораторией, д. ф.-м. н.
Тел.: (831) 417−94−75

Сотрудники

Лаборатория коротковолновой прецизионной оптики и перспективного приборостроения (131)

Лаборатория физики и технологии многослойных структур (132)

Лаборатория методов прецизионной обработки рентгенооптических материалов

Пестов Алексей Евгеньевич
Заведующий лабораторией, к. ф.-м. н.


Проекты, результаты


Оборудование

  • 8 установок магнетронного напыления
  • 3 установки ионно-пучкового травления
  • 2 рефлектометра со спектрометром-монохроматором РСМ-500
  • Рефлектометр с монохроматором на основе схемы Черни-Тёрнера
  • 2 Рентгеновских дифрактометра Philips X'Pert PRO
  • Интерферометры с дифракционной волной сранения

Публикации

Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало. Развитие многослойной рентгеновской оптики и применение в физических экспериментах и научном приборостроении в ИФМ РАН
Скачать pdf, 2.5 MB

Н. Н. Салащенко. Мы — другие
Скачать pdf, 419.3 KB



Chkhalo, N.I. High reflective Mo/Be/Si multilayers for the EUV lithography / N. Chkhalo, S. Gusev, A. Nechay, D. Pariev, V. Polkovnikov, N. Salashchenko, F. Schäfers, M. Sertsu, A. Sokolov, M. Svechnikov, and D. Tatarsky. High reflective Mo/Be/Si multilayers for the EUV lithography // Optics Letters (2017) (направлена в печать).

Chkhalo, N.I. Be-based multilayers for EUV spectral range / N.I. Chkhalo, D.A. Gaman, A.N. Nechay, D.G. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, F. Schaefers, M.G. Sertsu, A. Sokolov, M.V. Svechnikov, S.Yu. Zuev // The PTB Seminar VUV and EUV Metrology. Berlin, Germany (2017)

Sertsu, M.G. Nanoscale Mo/Be/Si Multilayer Structures for EUV Lithography application / M.G. Sertsu, F. Schäfers, A. Sokolov, N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.N. Nechay, D.E. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, M.V. Svechnikov, D.A. Tatarsky // The Frontier of optical coating (FOC). Guangzhou, China. Sun Yat-sen University (2017)