Полковников Владимир Николаевич

Заместитель директора по научно-технологическому развитию

Заведующий лабораторией физики и технологии многослойных структур (132)

Ведущий научный сотрудник отдела многослойной рентгеновской оптики, 130 

Персональные данные

Родился 22 апреля 1979 г. в Богородском районе Нижегородской области.

Образование

• 1996 — 2002 — радиофизический факультет Нижегородского государственного университета им. Н. И. Лобачевского.

• 5 декабря 2013 г. защитил диссертацию на соискание степени кандидата физико-математических наук по специальности 01.04.01 – приборы и методы экспериментальной физики.

Научные интересы

Многослойные зеркала, рентгеновское излучение, рентгеновская литография, наноструктуры, магнетронное распыление.

Профессиональная карьера

• 2000 — 2005 — стажер-исследователь в ИФМ РАН;
• с 2005 г — младший научный сотрудник.
• с 2014 г. – научный сотрудник ИФМ РАН;
• с 2015 г. – заведующий лабораторией ИФМ РАН;
• с 2020 г. – совмещение должностей заведующего лабораторией и ведущего научного сотрудника ИФМ РАН;
• с 2021 г. – заместитель директора по научно-технологическому развитию.

Индекс Хирша 17 WoS и 18 Scopus и РИНЦ

Избранные публикации

1) Chkhalo, N.I. High performance La/B₄C multilayer mirrors with barrier layers for the next generation lithography / N. I. Chkhalo, S. Kunstner, V. N. Polkovnikov, N. N. Salashchenko, F. Schafers, S. D. Starikov. // Appl. Phys. Lett. - 2013. - V.102. - P.011602-1.

2) Bogachev, S. A. Advanced materials for multilayer mirrors for extreme ultraviolet solar astronomy / S. A. Bogachev, N. I. Chkhalo, S. V. Kuzin, D. E. Pariev, V. N. Polkovnikov, N. N. Salashchenko, S. V. Shestov, and S. Y. Zuev // Applied Optics. – 2016. – Vol.55. – No.9. – p.2126-2135.

3) Chkhalo, N.I. Be/Al-based multilayer mirrors with improved reflection and spectral selectivity for solar astronomy above 17 nm wavelength / N.I. Chkhalo, D.E. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, R.A. Shaposhnikov, I.L. Stroulea, M.V. Svechnikov, Yu.A. Vainer, S.Yu. Zuev // Thin Solid Films. - 2017. - V.631. - P. 106-111.

4) Chkhalo, N.I. High-reflection Mo/Be/Si multilayers for EUV lithography / Nikolai I. Chkhalo, Sergei A. Gusev, Andrey N. Nechay, Dmitry E. Pariev, Vladimir N. Polkovnikov, Nikolai N. Salashchenko, Franz Schäfers, Mewael G. Sertsu, Andrey Sokolov, Mikhail V. Svechnikov, and Dmitry A. Tatarsky // Optics Letters. – 2017. - V.42. Iss.24. - Р.5070-5073.

5) Chkhalo, N.I. Deposition of Mo/Si multilayers onto MEMS micromirrors and its utilization for extreme ultraviolet maskless lithography / Nikolay Chkhalo, Vladimir Polkovnikov, Nikolay Salashchenko, and Mikhail Toropov // Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena. – 2017. – 35. – P. 062002.

6) Nechay, A.N. Study of oxidation processes in Mo/Be multilayers / A. N. Nechay,   N. I. Chkhalo, M. N. Drozdov, S. A. Garakhin, D. E. Pariev, V. N. Polkovnikov, N. N. Salashchenko, M. V. Svechnikov, Yu. A. Vainer, E. Meltchakov, and F. Delmotte // AIP Advances. – 2018. – V.8. – P. 075202.

7) Polkovnikov, V.N. Stable high-reflection Be/Mg multilayer mirrors for solar astronomy at 30.4 nm / Vladimir N. Polkovnikov, Nikolai I. Chkhalo, Roman S. Pleshkov, Nikolai N. Salashchenko, Franz Schäfers, Mewael G. Sertsu, Andrey Sokolov, Mikhail V. Svechnikov, and Sergei Yu. Zuev // Optics Letters. – 2019. - V.44. Iss.2. - Р. 263-266.

8) Kasatikov, S.A. Study of Interfaces of Mo/Be Multilayer Mirrors Using X-ray Photoelectron Spectroscopy / Sergey A. Kasatikov, Elena O. Filatova, Sergei S. Sakhonenkov, Aidar U. Gaisin, Vladimir N. Polkovnikov, Ruslan M. Smertin // J. Phys. Chem. C. – 2019. – Vol.123. – No.42. – p.25747-25755.

9) Chkhalo, N. Reflecting properties of narrowband Si/Al/Sc multilayer mirrors at 58.4 nm / Nikolai Chkhalo, Vladimir Polkovnikov, Nikolai Salashchenko, Mikhail Svechnikov, Nikolai Tsybin, Yuliy Vainer, and Sergei Zuev // Optics Letters. – 2020. - V.45. Iss.17. - Р. 4666-4669.

10) Polkovnikov, V. Periodic Multilayer for X-ray Spectroscopy in the Li K Range / Vladimir Polkonikov, Nikolai Chkhalo, Roman Pleshkov, Angelo Giglia, Nicolas Rividi, Emmanuelle Brackx, Karine Le Guen, Iyas Ismail and Philippe Jonnard // Appl. Sci. – 2021. – 11(14) – P. 6385-6391.

11) Polkovnikov, V. N. Highly reflective Ru/Y multilayer mirrors for the spectral range of 9-11 nm / V. N. Polkovnikov, R. A. Shaposhnikov, S. Yu. Zuev, M. V. Svechnikov, M. G. Sertsu, A. Sokolov, F. Schäfers, and N. I. Chkhalo // Optics Express – 2022. – V.30. Iss.11. – P. 19332-19342.

12) Shaposhnikov, R. A. Highly reflective Ru/Sr multilayer mirrors for wavelengths 9–12 nm / R. A. Shaposhnikov, V. N. Polkovnikov, N. N. Salashchenko, N. I. Chkhalo, and S. Yu. Zuev // Optics Letters. – 2022. - V.47. Iss.17. - Р. 4351-4354. 

Контактная информация