Свечников Михаил Владимирович

Научный сотрудник лаборатории основ наноэлектронной компонентной базы информационных технологий (181), к. ф.-м. н.

Персональные данные

Родился 30 марта 1991 г.

Научные интересы

• Рентгеновская оптика
• Многослойные рентгеновские зеркала
• Физика поверхности и тонких пленок
• Источники рентгеновского излучения;

Образование

• 2008 — закончил школу № 2 г. Дзержинска Нижегородской обл.
• 2008−2014 — студент факультета ВШОПФ Нижегородского госуниверситета им. Н. И. Лобачевского (ННГУ)
• 2014−2018 — аспирантура ИФМ РАН
• 2018 — защитил кандидатскую диссертацию по теме «Диагностика внутреннего строения многослойных рентгеновских зеркал по данным рефлектометрии в рамках расширенной модели», рук. Н. И. Чхало;

Профессиональная карьера

• 2012−2014 — старший лаборант ИФМ РАН, студент межфакультетской базовой кафедры «Физика наноструктур и наноэлектроника»
• 2014−2019 — младший научный сотрудник ИФМ РАН
• 2019−н. в. — научный сотрудник ИФМ РАН;

Избранные публикации

• Be/Al-based multilayer mirrors with improved reflection and spectral selectivity for solar astronomy above 17 nm wavelength / N. I. Chkhalo, D. E. Pariev, V. N. Polkovnikov, N. N. Salashchenko, R. A. Shaposhnikov, I. L. Stroulea, M. V. Svechnikov, Y. A. Vainer, and S. Y. Zuev, Thin Solid Films 631, 106−111 (2017)
• High-reflection Mo/Be/Si multilayers for EUV lithography / N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.N. Nechay, D.E. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, F. Schäfers, M.G. Sertsu, A. Sokolov, M.V. Svechnikov, D.A. Tatarsky, Optics Letters 42, 5070 (2017)
• Extended model for the reconstruction of periodic multilayers from extreme ultraviolet and X-ray reflectivity data / M. Svechnikov, D. Pariev, A. Nechay, N. Salashchenko, N. Chkhalo, Y. Vainer, and D. Gaman, J. Appl. Crystallogr. 50, 1428−1440 (2017)
• Study of oxidation processes in Mo/Be multilayers / A. N. Nechay, N. I. Chkhalo, M. N. Drozdov, S. A. Garakhin, D. E. Pariev, V. N. Polkovnikov, N. N. Salashchenko, M. V. Svechnikov, Y. A. Vainer, E. Meltchakov, and F. Delmotte, AIP Adv. 8 (7), 075202 (2018)
• Influence of barrier interlayers on the performance of Mo/Be multilayer mirrors for next-generation EUV lithography / M. V. Svechnikov, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, A. N. Nechay, D. E. Pariev, A. E. Pestov, V. N. Polkovnikov, D. A. Tatarskiy, N. N. Salashchenko, F. Schäfers, M. G. Sertsu, A. Sokolov, Y. A. Vainer, and M. V. Zorina, Opt. Express 26, 33718−33731 (2018)
• Stable high-reflection Be/Mg multilayer mirrors for solar astronomy at 30.4 nm / Vladimir N. Polkovnikov, Nikolai I. Chkhalo, Roman S. Pleshkov, Nikolai N. Salashchenko, Franz Schäfers, Mewael G. Sertsu, Andrey Sokolov, Mikhail V. Svechnikov, and Sergei Yu. Zuev, Opt. Lett. 44, 263−266 (2019)

Контактная информация

Тел.: (831) 417−94−76 (+122)
E-mail: svechnikov@ipmras.ru, svechnikovmv@gmail.com