Институт физики микроструктур РАН
- филиал Федерального государственного бюджетного научного учреждения "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова Российской академии наук" (ИФМ РАН)
|
Ионно-плазменный комплекс для нанесения и обработки тонкопленочных структур «Аврора»
Установка предназначена для изготовления следующих структур:
- одно и многослойных структур, состоящих из диэлектрических и металлических пленок, включая антиферромагнитные, ферромагнитные, сверхпроводящие пленки на Si и других подложках;
- реактивное напыление диэлектрических и металлических слоев в атмосфере различных газов;
- формирование туннельнопрозрачных диэлектрических слоев, в том числе MgO и Al2O3 (распыление с диэлектрических мишеней MgO и Al2O3).